測試5G高頻系統半導體導電膠“iSC-5G”
存儲測試導電膠革恩，全球半導體測試解決方案企業ISC 表示，正式推出了用于測試5G高頻系統半導體導電膠“iSC-5G”“iSC-5G”是目前正在商用化的28GHz以上高頻5G系統半導體用測試座。5G高頻市場正受到進入商用化階段。
革恩半導體業務領域
測試設備
0.1 基于英特爾平臺開發DDR及LPDDR顆粒及模組測試儀器，可并根據客戶需求進行固件及軟件調試。
0.2 基于MTK平臺開發LPDDR、EMMC、UFS測試儀器，并可根據客戶需求進行因件及軟件調試。 現有P60、P90、20M、21M平臺測試儀器已開發完成
0.3 高低溫測試設備及量產設備 #導電膠#可以廣泛應用于邏輯芯片（AP, CPU, GPU, PMIC, RF, Sensor, Mixed signal）存儲芯片（DDR,LPDDR,NAND,MCP)等測試.GN導電膠生產廠家
關于半導體工藝這點你要知道（4）蝕刻工藝
干法（Dry）蝕刻方法與等離子體（Plasma）
蝕刻技術的銅版畫美術和半導體工藝存在方法上的差異；在美術中，利用鋒利的雕刻工具制造出線路，而在工程中，首先用光刻膠（Photo Resist）制造出保護膜。然后進行蝕刻.
這樣的蝕刻工序根據引起反應的物質的狀態可以分為濕法和干法兩種。
干法與濕法相比有費用高、方法難等缺點，但近為了提高產出率和超細電路蝕刻，干法被使用！
#導電膠# #半導體# #芯片測試導電膠#江門221BGA-0.5P導電膠英特爾平臺測試儀器 現有Skylake、Cannon Lake Y、ICE lake U、Tiger Lake U、Alder Lake S 平臺儀器已開發或開發中。
深圳市革恩半導體有限公司為專業從事存儲器件測試解決方案公司，已與韓國測試設備廠家共同開多個MTK和英特爾方案的存儲器件測試儀器。并積累豐富的經驗與技術。并代理韓國Okins公司產品。（如探針、導電膠、治具、燒入板等測試部件）
#Rubber Socket# #LPDDR測試 導電膠# #DDR測試 導電膠#
革恩半導體業務領域
測試設備 0.1 基于英特爾平臺開發DDR及LPDDR顆粒及模組測試儀器，可并根據客戶需求進行固件及軟件調試。 0.2 基于MTK平臺開發LPDDR、EMMC、UFS測試儀器，并可根據客戶需求進行因件及軟件調試。 現有P60、P90、20M、21M平臺測試儀器已開發完成 0.3 高低溫測試設備及量產設備 #導電膠# #DDR導電膠# #測試導電膠# #LPDDR顆粒測試# #254BGA#
「半導體專題講座」芯片測試（Test）
4. 電氣參數與過程參數的聯動
電氣參數中重要的參數是電流（其次依次為門檻電壓、切換時間）.例如，如果我們研究驅動電流與過程變量的關聯關系，技術升級（ex.12納米到7納米）意味著線寬細化（這意味著澆口的長度/寬度和通道的長度/寬度縮小），這意味著必須縮小通道截面積（相對于長度而言，截面積影響更大），即電子在源端和直通端之間的通道。當過程變量縮小時，漏極電流（Id）就會減少，所以重新設置縮小漏極電流的Spec Limit以適應線寬。在這種情況下，如果需要維持一定的電流值，而不能根據工藝變量調整電參數值或相反地減小值，則需要調整工藝變量的濃度變量，以提高源/進端子形成時離子注入過程的陽離子度量。與電流一樣，電容值或電阻值與電壓相關，也會得到反饋的DC/AC測量值，以重新調整過程變量或重新設定規格的極限值。因此，電氣參數值與過程變量緊密相關。DDR3是應用在計算機及電子產品領域的一種高帶寬并行數據總線。
存儲芯片測試儀P20MT6757DRAMP90MT6779G90MT6785……
革恩半導體有限公司有著多年同海外企業合作與交流共同業研發多個存儲芯片測試平臺，積累了豐富經驗，持續服務與海外多家存儲半導體生產廠家，研發存儲芯片方案。
現目前已開發的平臺有聯發科的P20MT6757/P90MT6779/G90MT6785/20MMT6873/21M+MT6877，如有其它需求我們也可以提供定制化服務。希望致力于國內存儲半導體企業和電子產品生產企業提供及時，優良，完善的測試平臺，能夠為企業創造更多商業契機。Cannon Lake Y Memory Tester。長沙L/P測試導電膠
深圳市革恩半導體有限公司與韓企對接合作十多年，業務領域及相關合作共贏。GN導電膠生產廠家
關于半導體工藝這點你要知道（4）蝕刻工藝
大家好！這次是第4道工序！是蝕刻（Etching）工序，我們一起學習吧~
蝕刻（Etching）工序?.
還記得之前第3課光刻（PhotoLithography）工程中“照相~”的表達嗎？在這個蝕刻(Etching)過程中，我們將消除底圖中不必要的部分，即只保留電路圖案中必要的部分，而將不必要的部分削掉。更詳細地說，如果在光刻“PhotoLithography”工序中形成了光刻膠“PhotoResist”，那么在蝕刻工序中，就是使用液體或氣體（etchant）進行腐蝕，消除多余部分的工作。（其中etchant是進行腐蝕的物質的統稱）這種蝕刻技術是制作銅版畫的美術中經常使用的方法。19世紀畫家皮薩羅（CamillePissaro）和德加（EdgarDegas）也利用蝕刻制作了很多精致細致的線。GN導電膠生產廠家
深圳市革恩半導體有限公司成立于2019-12-06年，在此之前我們已在芯片導電膠測試墊片，DDR測試、LPDDR測，內存測試儀器，內存顆粒內存條測試行業中有了多年的生產和服務經驗，深受經銷商和客戶的好評。我們從一個名不見經傳的小公司，慢慢的適應了市場的需求，得到了越來越多的客戶認可。公司現在主要提供芯片導電膠測試墊片，DDR測試、LPDDR測，內存測試儀器，內存顆粒內存條測試等業務，從業人員均有芯片導電膠測試墊片，DDR測試、LPDDR測，內存測試儀器，內存顆粒內存條測試行內多年經驗。公司員工技術嫻熟、責任心強。公司秉承客戶是上帝的原則，急客戶所急，想客戶所想，熱情服務。GN嚴格按照行業標準進行生產研發，產品在按照行業標準測試完成后，通過質檢部門檢測后推出。我們通過全新的管理模式和周到的服務，用心服務于客戶。深圳市革恩半導體有限公司依托多年來完善的服務經驗、良好的服務隊伍、完善的服務網絡和強大的合作伙伴，目前已經得到電子元器件行業內客戶認可和支持，并贏得長期合作伙伴的信賴。